A Samsung e a ASML anunciaram, em 8 de setembro de 2026, a ampliação de uma parceria estratégica voltada ao desenvolvimento de tecnologias para a fabricação de semicondutores avançados. A colaboração inclui a participação da empresa sul-coreana em uma iniciativa para criar uma plataforma de fotomáscaras de 12 polegadas compatível com a litografia High NA EUV.

A iniciativa está concentrada em uma das etapas mais complexas da produção de chips. A litografia é utilizada para formar padrões cada vez mais precisos nos componentes semicondutores, enquanto a tecnologia High NA EUV representa uma evolução dos processos de litografia ultravioleta extrema empregados pela indústria.

Segundo a Samsung Global Newsroom, o desenvolvimento de fotomáscaras maiores pode contribuir para elevar a produtividade das fábricas e reduzir custos de fabricação. A proposta também busca diminuir limitações relacionadas ao uso de múltiplas exposições durante o processo industrial.

O que muda com a plataforma de 12 polegadas

As fotomáscaras funcionam como elementos fundamentais no processo de litografia, ajudando a definir os padrões que serão reproduzidos nos chips. Ao trabalhar com uma plataforma de 12 polegadas, a parceria pretende ampliar a área utilizada em cada etapa e tornar o processo mais eficiente para a fabricação de semicondutores avançados.

Na prática, a adoção de uma solução compatível com High NA EUV pode ajudar as fábricas a lidar com a crescente complexidade dos projetos de chips. À medida que aplicações de inteligência artificial, computação de alto desempenho, dispositivos móveis e data centers exigem mais capacidade, a indústria precisa produzir componentes com maior precisão e em escala.

A Samsung relaciona o uso de fotomáscaras maiores a ganhos potenciais de produtividade. A empresa também aponta a possibilidade de redução de custos e de menor dependência de múltiplas exposições, etapas que podem aumentar a complexidade do processo de fabricação.

High NA EUV deve chegar à produção de memórias

Além do desenvolvimento da plataforma de fotomáscaras, a Samsung informou que pretende utilizar equipamentos High NA EUV fornecidos pela ASML na produção em larga escala de memórias DRAM a partir de 2028. A previsão coloca a tecnologia no centro dos planos da companhia para a próxima etapa de fabricação de memórias.

A DRAM está presente em diferentes tipos de equipamentos eletrônicos e sistemas computacionais. Por isso, a evolução dos processos de produção pode ter impacto sobre segmentos que dependem de maior capacidade de memória, incluindo servidores, infraestrutura de data centers, dispositivos móveis e sistemas voltados à inteligência artificial.

O anúncio, no entanto, está relacionado a uma previsão de adoção futura. A empresa não informou, na fonte divulgada, detalhes sobre volumes de produção, unidades industriais específicas ou modelos de equipamentos que serão instalados. O ponto central apresentado é a intenção de levar a litografia High NA EUV à fabricação de memórias em larga escala a partir de 2028.

Parceria reforça disputa por eficiência industrial

A cooperação entre Samsung e ASML evidencia a importância dos equipamentos e dos materiais utilizados antes mesmo de um chip chegar a celulares, servidores ou outros produtos. O avanço dos semicondutores depende não apenas do projeto dos componentes, mas também da capacidade de reproduzir estruturas complexas com precisão e produtividade.

Para a Samsung, a participação no desenvolvimento de uma plataforma de fotomáscaras de 12 polegadas pode ajudar a preparar a cadeia de fabricação para processos mais avançados. Para a ASML, a colaboração amplia a aplicação de sua tecnologia High NA EUV em uma área estratégica do mercado de semicondutores.

Os possíveis efeitos da parceria deverão ser observados conforme a tecnologia avance em desenvolvimento e seja incorporada à produção. A principal expectativa é que a combinação entre equipamentos High NA EUV e fotomáscaras maiores ajude a reduzir obstáculos industriais, elevar a eficiência das fábricas e sustentar a fabricação de chips destinados a aplicações de alta demanda computacional.

O anúncio também mostra como a evolução da indústria de semicondutores depende de acordos entre fabricantes de memórias e fornecedores especializados em equipamentos de litografia. Nesse cenário, a parceria entre Samsung e ASML mira uma etapa anterior à chegada dos produtos ao consumidor, mas com influência direta sobre a capacidade de produção de componentes usados em tecnologias digitais.